[국내주식 이슈 + 일정] 에스앤에스텍 (EUV 블랭크마스크)

 

(종목 추천이 아닌 개인적으로 관심있는 이슈 공부, 기록하는 용도로 봐주세요~!!)

 

*에스앤에스텍 (EUV블랭크마스크)

 

(출처 : 에스앤에스텍)

 

-16일 업계에 따르면 에스앤에스텍은 내년 양산을 목표로 EUV용 블 블랭크마스크 연구개발(R&D)을 진행 중이다.

 

-에스앤에스텍은 작년 6월 100억원에 이어 올해 7월 110억원을 EUV용 블랭크마스크 시설 투자 등에 집행했다.

 

-블랭크마스크는 반도체 노광공정에 사용되는 포토마스크 원재료로, 석영(쿼츠)위에 금속막과 감광막을 도포해 만들고, 여기에 회로패턴을 형상화하면 포토마스크가 된다. 

 

-노광공정은 포토마스크를 올린 실리콘웨어퍼에 빛을 쏘아 회로를 새기는 과정이고, 이때 반응시키는 빛의 파장에 따라 불화크립톤, 불화아르곤, EUV용으로 구분된다.

 

-최근 반도체 공정 미세화에 따라 EUV활용이 높아지는 추세이다.

 

-에스앤에스텍은 EUV포토마스크를 보호하는 EUV펠리클 사업도 준비 중이다. 펠리클이 있으면 포토마스크 수명을 늘릴 수 있다.

 

-반도체 업계 관계자는 '앞으로 삼성전자, SK하이닉스 공장에 EUV 장비가 꾸준히 들어올 것이기 때문에 EUV용 블랭크마스크 국산화는 큰 의미가 있다' 라고 분석했다. 

 

 

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*에스앤에스텍

 

-시스템반도체/ LCD부품, 소재/ 일 수출 규제 관련주/ 반도체 재료, 부품

 

-블랭크마스크가 주력인 회사. 해당 제품은 반도체 노광 공정에 사용되는 포토 마스크 원재료.

 

(블랭크마스크는 반도체 및 LCD, OLED 노광 공정의 핵심재료인 포토마스크의 원재료임)

 

-주요 고객사로는 삼성전자, SMIC등이 있음.

 

-EUV용 페리클 개발도 진행(포토마스크의 오염 방지 및 수명 연장)